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        衍生機(顯影)

        簡要描述:AC200衍生機(顯影)全新外觀設計,大氣,適配實驗室實驗操作,先進的設計理念,模塊化設計。

        • 所在城市:無錫市
        • 廠商性質:生產廠家
        • 更新日期:2024-03-27
        • 訪  問  量:1884

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        詳細介紹

        品牌其他品牌產地類別國產
        應用領域化工,石油

        AC200衍生機(顯影)介紹:

        新外觀衍生機尺寸:680*550*450mm(三種機型尺寸一致)

        包裝用木箱包裝

        轉速范圍:20-10000rpm

        加速度可調范圍20-50000rpm/s

        單步時長:3000s

        時間分辨率:0.1s

        可編輯100100步程序,更多可擴展


        11.png


        AC200衍生機(顯影)大體說明可參照樣本上的寫,配件可以放一些標準載物盤,真空泵的圖片

        自動滴膠:

        適用基片尺寸:小于1cm小碎片及到8寸標準晶圓,非標準基片可定制載物盤

        自動顯影:

        適用基片尺寸:4/6/8寸標準晶圓,非標準基片可定制載物盤

        顯影噴嘴距離基片高度可調,可調范圍10-50mm

        自動去邊:

        適用基片尺寸:4/6/8寸標準晶圓

        去邊精度:去除晶圓邊緣3±0.5mm

        三個基本功能可添加背洗功能(供客戶選擇)



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